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精密陶瓷拋光液 CMP納米級(jí)拋光液
產(chǎn)品名稱(chēng):氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
產(chǎn)品特點(diǎn):適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光
- SiC碳化硅襯底研磨拋光產(chǎn)品
- 吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導(dǎo)體晶圓拋光
產(chǎn)品名稱(chēng):碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
產(chǎn)品特點(diǎn):Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國(guó)產(chǎn)替代
- 半導(dǎo)體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液
- 產(chǎn)品名稱(chēng):鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類(lèi)型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專(zhuān)利化學(xué)配方/可定制
- 半導(dǎo)體拋光液 淺溝槽隔離拋光液 STI拋光液
- 產(chǎn)品名稱(chēng):淺槽隔離拋光液/STI拋光液/淺溝槽隔離化學(xué)機(jī)械拋光液
磨料類(lèi)型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:10-150nm/全粒徑可定制
精密陶瓷件拋光液·參數(shù)
可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產(chǎn)品名稱(chēng):陶瓷拋光液/氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
精密陶瓷拋光液作用: 吉致電子陶瓷類(lèi)拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光,通過(guò)CMP拋光工序可得到理想鏡面效果,表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留等特點(diǎn)。
吉致可提供各陶瓷類(lèi)的鏡面拋光液
1、納米級(jí)拋光液,拋光后具有較優(yōu)的粗糙度
2、拋光液綠色無(wú)污染、不含鹵素及重金屬元素
3、拋光液可循環(huán)使用,根據(jù)工藝要求可添加去離子水稀釋
*可以依客戶(hù)不同工藝要求,提供定制化服務(wù)
*提供全套解決方案,及免費(fèi)安排工程師上門(mén)服務(wù)
新型陶瓷的耐高溫、耐腐蝕、耐磨損、超硬性、超導(dǎo)性,遠(yuǎn)比傳統(tǒng)陶瓷、現(xiàn)存的金屬或非金屬材料優(yōu)越,通過(guò)CMP化學(xué)機(jī)械平面拋光工藝,結(jié)合吉致電子平面研磨機(jī)配合研磨液、拋光液、研磨盤(pán)就可以達(dá)到理想鏡面效果。
為各類(lèi)陶瓷提供CMP拋光液:氮化鋁陶瓷拋光、氧化鋯陶瓷拋光、氮化硅陶瓷拋光、氧化鋁陶瓷拋光
適用于:掃光機(jī)、雙面研磨機(jī)、機(jī)械手拋光機(jī)
吉致電子陶瓷拋光液儲(chǔ)存方法:
通風(fēng),陰涼,干燥的庫(kù)房,本品需在5-35℃儲(chǔ)存,防止陽(yáng)光直射及凍結(jié),零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。
本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類(lèi)拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
無(wú)錫吉致電子科技有限公司
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- 產(chǎn)品名稱(chēng):鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類(lèi)型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專(zhuān)利化學(xué)配方/可定制
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- 產(chǎn)品名稱(chēng):淺槽隔離拋光液/STI拋光液/淺溝槽隔離化學(xué)機(jī)械拋光液
磨料類(lèi)型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:10-150nm/全粒徑可定制
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