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半導體硅片拋光液 Si Wafer Slurry
產品名稱:硅片拋光液/硅晶圓拋光研磨/半導體晶圓研磨拋光
產品特點:用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圓的CMP粗拋、中拋、精拋,減少晶圓表面的不平整。達到半導體高質量晶片的組裝工藝要求。
硅片SI拋光液·參數(shù)
可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產品名稱:硅片拋光液/硅晶圓拋光研磨/半導體晶圓研磨拋光/Si Wafer Slurry
硅片拋光液作用: 用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圓的CMP粗拋、中拋、精拋,減少晶圓表面的不平整。達到半導體高質量晶片的組裝工藝要求。
8-12”Wafer大硅片及再生晶圓拋光液具有:
1、高去除速率且除速率穩(wěn)定。
2、循環(huán)性好、稀釋比高、低表面粗糙度。
3、精拋光液低顆粒殘留、低表面粗糙度、低Haze值、低金屬離子含量。
*可以依客戶不同工藝要求,提供定制化服務
*提供全套解決方案,及免費安排工程師上門服務
利用吉致電子CMP拋光設備和研磨液/拋光液對半導體晶圓表面進行研磨拋光加工,使硅片、晶圓等工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平坦表面的。
吉致電子Si Slurry適用于大硅片及再生晶圓的拋磨,可達到優(yōu)良的表面平坦度,拋光速率快、良率高、表面均一無缺陷。
吉致電子半導體硅片拋光液儲存方法:
通風,陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽光直射及凍結,零度以下因產生不可再分散結塊而失效。
吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。
本土化生產的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產設備,為金屬鉬、不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
無錫吉致電子科技有限公司
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