LT鉭酸鋰晶片的CMP拋光液
鉭酸鋰LiTaO3作為非線性光學(xué)晶體、電光晶體、壓電晶體、聲光晶體和雙折射晶體等在現(xiàn)今以光技術(shù)產(chǎn)業(yè)為中心的IT 產(chǎn)業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用。 晶體材料的結(jié)構(gòu)與其光學(xué)性能息息相關(guān),鉭酸鋰LT晶體是一種優(yōu)良的多功能材料,具有很高的應(yīng)用價(jià)值。LiTaO3晶體以它的化學(xué)性能穩(wěn)定高(不溶與水),居里點(diǎn)高于600℃,不易出現(xiàn)退極化現(xiàn)象,介電損耗低,探測率優(yōu)值高的優(yōu)良特性,成為熱釋電紅外探測器的應(yīng)用材料。
經(jīng)過CMP半導(dǎo)體研磨液拋光的LT晶片廣泛用于諧振器、濾波器、換能器等電子通訊器件的制造,尤其以它良好的機(jī)電耦合、溫度系數(shù)等綜合性能而被用于制造高頻聲表面波器件,并應(yīng)用在手機(jī)、對講機(jī)、衛(wèi)星通訊、航空航天等許多高端通訊領(lǐng)域。
光學(xué)級鉭酸鋰晶片(Optical Grade LiTaO3Wafer):CMP雙面拋光 S/D 20/10 TTV: <10μm BOW:<30μm
常規(guī)雙拋片 單拋片 Y36° Y42°
(1)晶片表面光潔度:Ra<10
(2)晶片背面:客戶可自定粗糙度指標(biāo)
吉致電子CMP半導(dǎo)體研磨液,適用LT/LN鉭酸鋰/鈮酸鋰晶圓的拋光和平坦化,是一種高性能的CMP Slurry光學(xué)研磨拋光漿料,具有高的移除率,研磨后可獲得較高的平整度、較低的缺陷率和較高的生產(chǎn)率。
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系電話:17706168670
郵編:214000
地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)新榮路6號
相關(guān)資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- LT鉭酸鋰晶片的CMP拋光液
- 看懂SIC碳化硅襯底研磨加工技術(shù)
- 碳化硅襯底平坦化使用的是什么工藝?
- 碳化硅SIC襯底的加工難度有哪些?
- 氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光
- 吉致電子1um/3um/6um/7μm/9μm金剛石拋光液和研磨液
- 吉致電子榮獲第四屆亞太碳化硅及相關(guān)材料國際會議“優(yōu)秀組織獎”
- 吉致電子科技碳化硅研磨液的作用
- 吉致電子手機(jī)中框拋光液及智能穿戴設(shè)備表面處理
- 藍(lán)寶石襯底研磨用什么拋光液